特許
J-GLOBAL ID：200903039744917904
プラズマ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-163651
公開番号（公開出願番号）：特開平5-335263
出願日： 1992年05月29日
公開日（公表日）： 1993年12月17日
要約：
【要約】【目的】プラズマ増強用の磁場コイルを具備したプラズマ処理装置での清浄作業が容易にできる様にする。【構成】プラズマ処理室1の上下にプラズマ増強用の磁場コイル24,31を具備したプラズマ処理装置に於いて、プラズマ処理室の天井蓋17をプラズマ処理室内を開放する様に移動可能に設け、又前記上磁場コイル24を前記天井蓋とは独立して支持し、該上磁場コイルを移動可能に設けて前記プラズマ処理室の上方を開放可能とし、プラズマを発生させた状態でプラズマ発生空間に磁場を印加することでプラズマ発生効率を増大させ、プラズマ処理室内の清浄作業は上磁場コイルをプラズマ処理室の上方から移動し、プラズマ処理室の天井蓋の開いてプラズマ処理室の内部を開放して清浄作業を行う。
請求項（抜粋）：
プラズマ処理室の上下にプラズマ増強用の磁場コイルを具備したプラズマ処理装置に於いて、プラズマ処理室の天井蓋をプラズマ処理室内を開放する様に移動可能に設け、又前記上磁場コイルを前記天井蓋とは独立して支持し、該上磁場コイルを移動可能に設けて前記プラズマ処理室の上方を開放可能としたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/205
, H01L 21/302
