特許
J-GLOBAL ID：200903039760375763
粒度分布測定装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西岡 義明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-089421
公開番号（公開出願番号）：特開平7-294411
出願日： 1994年04月27日
公開日（公表日）： 1995年11月10日
要約：
【要約】【目的】 光学系部品等を汚さない粉体の粒度分布測定装置を提供する。【構成】 密閉室1には、粒子の吹出ノズル2と吸引ノズル3を所定間隔あけて対向配置した測定室4が配置され、この測定室4にはレーザ光通過用孔4aと回折・散乱光通過用孔4bが穿設される。さらに、密閉室1はレーザ光源9及び検出器10の一部若しくは全部を密閉するとともに圧力センサ11が設けられ、この密閉室1が所定の減圧状態のとき、吹出ノズル2から粉体サンプルSを吹き出すコントローラ5を有する。
請求項（抜粋）：
粉体にレーザ光を照射し、その回折・散乱光を検出して粉体の粒度分布を測定する粒度分布測定装置において、粒子の吹出手段と吸引手段とを所定間隔あけて対向配置した測定部に、レーザ光通過用孔と回折・散乱光通過用孔を穿設するとともに、この測定部の外側を密閉筐体で包囲し、この密閉筐体の内側に圧力センサを設け、この圧力センサの出力信号によって前記吹出手段からの粉体吹き出しを制御することを特徴とする粒度分布測定装置。
IPC (3件)：
G01N 15/02
, G01N 15/00
, G01N 15/14
