特許

J-GLOBAL ID：200903039762273240

光磁気記録媒体の製造方法

発明者： 関谷 昌彦 ,  足立 亮 ,  堀口 透 ,  千葉 潔
出願人/特許権者： 帝人株式会社
代理人 (1件)： 前田 純博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-069794
公開番号（公開出願番号）：特開平6-084216
出願日： 1993年03月29日
公開日（公表日）： 1994年03月25日
要約：

【要約】【目的】光パルスのパワーレベルおよび/またはパルス幅の変調のみによる、磁壁移動型のダイレクトオーバーライトが可能な光磁気記録媒体における、消去動作の改善とC/Nの向上。【方法】以下の方法によって光磁気記録媒体を製造する。まず基板には、その表面を平坦化したものを用いる。さらに記録層を設ける下地の表面に対して、逆スパッタによるエッチングを行う。そのエッチングは、エッチング量が20.0nm以下で行う。

請求項（抜粋）：

光パルスのパワーレベルおよび/またはパルス幅の変調のみによる、磁壁移動型のダイレクトオーバーライトが可能な光磁気記録媒体の製造方法において、基板の表面を平坦化し、かつ記録層を設ける下地の表面に対して逆スパッタによるエッチングを、エッチング量が20.0nm以下で行うことを特徴とする光磁気記録媒体の製造方法。