特許
J-GLOBAL ID：200903039764049607
気液接触装置およびオゾン水製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
三好 秀和 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-288952
公開番号（公開出願番号）：特開平5-123554
出願日： 1991年11月05日
公開日（公表日）： 1993年05月21日
要約：
【要約】【目的】 微細な気泡により気体の逸散損失が少ない優れた気液接触反応を行うこと。【構成】 円柱状の気液接触槽1と、気液接触槽1に液体を噴出し当該液体の噴流による負圧により気体を吸引してこれを噴出液体と共に気液接触槽1に気泡として供給するエゼクタ式ガスノズル9とを用い、エゼクタ式ガスノズル9が気液接触槽1の接線方向に噴射を行うよう、エゼクタ式ガスノズル9の取付方向姿勢を設定する。エゼクタ式ガスノズル9により気体の分散が行われるから、微細気泡が得られ、これによって気液の接触面積が飛躍的に増加する。気液接触槽1にこれの中心軸線周りの横旋回流が生じ、気泡はこの横旋回流に乗って気液接触槽内を旋回するようになり、これにより気泡が気液接触槽1の周壁に衝突する度合が低減され、また気液接触槽1に滞留する時間が延長される。
請求項（抜粋）：
円柱状の気液接触槽と、前記気液接触槽に液体を噴出し当該液体の噴流による負圧により気体を吸引してこれを噴出液体と共に前記気液接触槽に気泡として供給するエゼクタ式ガスノズルとを有し、前記エゼクタ式ガスノズルは前記気液接触槽の接線方向に噴射を行うよう取付方向姿勢を設定されていることを特徴とする気液接触装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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