特許
J-GLOBAL ID:200903039766371158

エポキシオルガノアルコキシシランの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 曾我 道治 ,  古川 秀利 ,  鈴木 憲七 ,  梶並 順 ,  大宅 一宏
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-506143
公開番号(公開出願番号):特表2007-537159
出願日: 2005年01月13日
公開日(公表日): 2007年12月20日
要約:
エポキシオルガノアルコキシシランは、RhCl(ジ-tert-ブチルスルフィド)2触媒の存在下で、ヒドリドアルコキシシランとオレフィンエポキシドとの反応によって作られる。該反応は安定剤の存在なしで、65〜95°Cの範囲の温度で実施され、該オレフィンエポキシドが、ヒドリドアルコキシシランと反応するのに必要な化学量論の量を超えた5〜25パーセントの過度のモル濃度で該反応に存在する。好ましくは、該反応温度は70〜75°Cの範囲内であり、該オレフィンエポキシドはヒドリドアルコキシシランと反応するのに必要な化学量論の量を超えた約10パーセントの過度のモル濃度で反応中に存在する。
請求項(抜粋):
RhCl(ジ-tert-ブチルスルフィド)2触媒の存在下、ヒドリドアルコキシシランとオレフィンエポキシドとの反応を含むエポキシオルガノアルコキシシランの製造方法であって、該反応は安定剤の存在なしで、70〜75°Cの範囲の温度で実施され、該オレフィンエポキシドがヒドリドアルコキシシランと反応するのに必要な化学量論の量を超えた5〜25パーセントの過度のモル濃度で該反応に存在する、エポキシオルガノアルコキシシランの製造方法。
IPC (1件):
C07F 7/18
FI (1件):
C07F7/18 S
Fターム (11件):
4H039CA92 ,  4H039CD10 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ57 ,  4H049VR21 ,  4H049VR43 ,  4H049VS21 ,  4H049VT17 ,  4H049VT37 ,  4H049VV02

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