特許

J-GLOBAL ID：200903039774284329

電子材料用洗浄水

発明者： 森田 博志 ,  井田 純一 ,  水庭 哲夫
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-326566
公開番号（公開出願番号）：特開平11-158494
出願日： 1997年11月27日
公開日（公表日）： 1999年06月15日
要約：

【要約】【課題】濃度管理が容易で、特殊な接液材料を必要とせず、耐オゾン性に乏しい材料も洗浄することができ、金属汚染、有機物汚染及び微粒子汚染のすべてに対して除去効果を有する、半導体用シリコン基板、液晶用ガラス基板などの電子材料用洗浄水を提供する。【解決手段】大気飽和濃度より高濃度に溶存酸素を含有する超純水からなることを特徴とする電子材料用洗浄水。

請求項（抜粋）：

大気飽和濃度より高濃度に溶存酸素を含有する超純水からなることを特徴とする電子材料用洗浄水。

IPC (3件)：

C11D 7/02 ,  B08B 3/10 ,  H01L 21/304 341

FI (3件)：

C11D 7/02 ,  B08B 3/10 Z ,  H01L 21/304 341 L