特許

J-GLOBAL ID：200903039779761486

レーザマーカ

発明者： 武久 究 ,  桑原 皓二 ,  猿田 光
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-147107
公開番号（公開出願番号）：特開平9-001363
出願日： 1995年06月14日
公開日（公表日）： 1997年01月07日
要約：

【要約】【構成】マスク式レーザマーカ100ではスラブレーザ1が用いられ、マスク2にビームを照射させるために転写光学系が用いられている。転写光学系の結像レンズは2枚の凸レンズ5a,5bで構成されており、それらの間隔dを調整できるようになっているため、マスク2に照射されるビームの大きさを調整できる。【効果】マスク上で形成された文字に効率良くレーザ光を照射でき、無駄になるレーザ光を減らすことができる。

請求項（抜粋）：

スラブレーザを光源としたレーザマーカにおいて、前記スラブレーザとマスクとの間の光軸上に、複数枚のレンズから成る組み合わせレンズを配置し、前記複数枚のレンズの間隔が調整可能であることを特徴とするレーザマーカ。

IPC (5件)：

B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  G02F 1/13 505 ,  H01L 21/02 ,  H01S 3/00

FI (7件)：

B23K 26/00 B ,  B23K 26/06 E ,  B23K 26/06 G ,  B23K 26/06 J ,  G02F 1/13 505 ,  H01L 21/02 A ,  H01S 3/00 B