特許
J-GLOBAL ID:200903039784572322

有機EL素子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗 ,  阿部 豊隆
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-188239
公開番号(公開出願番号):特開2005-026000
出願日: 2003年06月30日
公開日(公表日): 2005年01月27日
要約:
【課題】有機EL素子の長寿命化を実現できる製造方法を提供する。【解決手段】まず、ITOから成る電極層11を形成した基板10上にホール注入層塗布溶液を塗布して塗膜を形成する。次に、この基板10を加圧槽に収容し、一定の加圧・加熱条件で塗膜を乾燥・固化させてホール注入層としての第1有機層12を形成する。引き続き、発光層用の塗膜形成及び加圧・加熱処理を行って発光層としての第2有機層13を形成した後、その上にCa及びAlを蒸着して電極層15を形成して有機EL素子1を得る。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
電極間に少なくとも一つの有機層を備える有機EL素子を製造する方法であって、 前記有機層のうち少なくとも一つが形成される時に又は形成された後に、該有機層の周囲を大気圧よりも大きな圧力となるように加圧する加圧工程を備える、有機EL素子の製造方法。
IPC (2件):
H05B33/10 ,  H05B33/14
FI (2件):
H05B33/10 ,  H05B33/14 A
Fターム (4件):
3K007AB11 ,  3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01

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