特許
J-GLOBAL ID:200903039791270250
磁気抵抗効果型ヘッドの製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
梶原 康稔
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-144218
公開番号(公開出願番号):特開平6-333215
出願日: 1993年05月24日
公開日(公表日): 1994年12月02日
要約:
【要約】【目的】 短絡の発生を防止しつつ、ノイズを低減した良好な特性の磁気抵抗効果型ヘッドを得る。【構成】 下シールド膜12上に絶縁膜16を介して形成されたMR膜10上に(A)、Wなどのドライエッチング可能な材料を用いて導電膜50を形成する(B)。次に、導電膜50上にフォトレジストによって電極用パターン52を形成する(C)。そして、CF4ガスを用いてドライエッチングを行って導電膜50を所望形状に加工し(D)、電極54,56を得る。次に、電極用パターン52を除去し、絶縁膜22,上シールド膜14を順次形成する(E)。電極54,56の段差部分は非常になだらかなテーパ形状58となっているので、絶縁膜22の被覆性が向上し、その絶縁破壊が防止される。
請求項(抜粋):
少なくとも、磁気抵抗効果を有するMR膜と、これに電流を加えるための電極とを構成要素として含む磁気抵抗効果型ヘッドの製造方法において、平坦に形成されたMR膜又は反強磁性膜上に、ドライエッチング可能な材料によって導電膜を形成する工程と、この導電膜上に所望の電極用パターンを形成する工程と、この電極用パターンに沿ってドライエッチングを行い、段差部分にテーパを有する電極を形成する工程とを含むことを特徴とする磁気抵抗効果型ヘッドの製造方法。
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