干渉フィルタの製造方法及びその製造方法により製造された干渉フィルタを用いた液晶パネル

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木喜三郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-150620
公開番号（公開出願番号）：特開平9-005517
出願日： 1995年06月16日
公開日（公表日）： 1997年01月10日
要約：

【要約】【目的】二光束干渉により簡便に干渉フィルタを製造する方法を提供することと、前記干渉フィルタを備えた液晶パネルを提供することを目的とする。【構成】本発明の干渉フィルタの製造方法は、少なくとも次の工程を有することを特徴とする:?@RGBの各色光を含むレーザービームをカラーフィルタ配列を有するマスクに照射し、アフォーカル光学系で前記マスクの像を感光性材料上もしくは近傍に形成する。?A前記レーザービームを分岐して得たもう1本のビームを、前記レーザービームと対向する側から、前記マスクに照射する。?B前記ふたつのビームの干渉により周期的な光強度分布を前記感光性材料の中に形成し、前記感光性材料の屈折率に周期的な変調を与える。

請求項（抜粋）：

複数の色要素からなるパターンが形成されてなるマスクに複数の色成分を含む光線を透過させ、前記マスクを透過した光線をアフォーカル光学系を通過させた後、感光性材料からなる基材の一方の面に照射し、前記基材の前記一方の面に照射される光線と特定の位相関係を有する光線を、前記基材の他方の面に照射し、前記基材の前記一方の面に照射した光線と、前記基材の前記他方の面に照射した光線とを干渉させることにより前記基材の屈折率を変化させ、前記パターンに対応した色パターンを有する干渉フィルタを製造することを特徴とする干渉フィルタの製造方法。

IPC (2件)：

G02B 5/28 , G02F 1/1335 505

FI (2件)：

G02B 5/28 , G02F 1/1335 505

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平2-244004
特開平3-113402
特開平3-198004

全件表示

前のページに戻る