特許
J-GLOBAL ID：200903039814615153
高密度有機分子薄膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-046248
公開番号（公開出願番号）：特開2000-247799
出願日： 1999年02月24日
公開日（公表日）： 2000年09月12日
要約：
【要約】【課題】 高密度で結晶性の高い、任意のパターンを容易に作製できる有機分子薄膜の製造方法の提供。【解決手段】 酸化チタン基板の表面に紫外線を通さない材料でマスクをかけて紫外線を照射し、次いで、該基板の紫外線照射領域のみに選択的に有機分子を吸着させて薄膜を形成させる。金属イオンを介して有機分子を複数層形成させることにより、累積薄膜を形成させることもできる。
請求項（抜粋）：
酸化チタン基板の表面に紫外線を通さない材料でマスクをかけて紫外線を照射し、次いで、該基板の紫外線照射領域のみに選択的に有機分子を吸着させて薄膜を形成させることを特徴とする高密度有機単分子薄膜の製造方法。
Fターム (5件)：
4G077AA03
, 4G077BF02
, 4G077ED06
, 4G077EF01
, 4G077EJ03
