特許
J-GLOBAL ID：200903039818456866
プリントマスク処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
奥山 尚一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-054964
公開番号（公開出願番号）：特開2001-277495
出願日： 2001年02月28日
公開日（公表日）： 2001年10月09日
要約：
【要約】【課題】 自動および半自動の手順よるプリントマスク生成における様々な制約に、効果的に対応する。【解決手段】 逐次印刷に使用するプリントマスク処理方法であって、プリントマスクを確立する段階と、前記プリントマスク内の個々の値が機能しないことを決定する段階と、事前にプログラムされた手順に従って前記機能しない個々の値を適応させる段階とを含むようにしたものである。
請求項（抜粋）：
逐次印刷に使用するプリントマスク処理方法であって、プリントマスクを確立する段階と、前記プリントマスク内の個々の値が機能しないことを決定する段階と、事前にプログラムされた手順に従って前記機能しない個々の値を適応させる段階とを含む方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B41J 3/04 101 Z
, B41J 3/04 104 D
