特許
J-GLOBAL ID：200903039819999413
電子線描画方法および装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
薄田 利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-295724
公開番号（公開出願番号）：特開平6-151287
出願日： 1992年11月05日
公開日（公表日）： 1994年05月31日
要約：
【要約】【目的】ステージ連続移動方式による電子線描画装置において、所要露光時間の長い図形についても、ステージの速度を低下させることなくして、正確かつ高速な図形描画を可能にすること。【構成】電子ビームの照射時間を制御する露光時間制御回路に、最小露光時間設定回路と露光時間分割回路とを設け、所要露光時間が長い場合に該所要露光時間を上記最小露光時間以下の複数の露光時間に分割して、この分割された各露光時間でもって同一図形を複数回に分けて描画する。【効果】所要露光時間の長い図形については、短い露光時間で複数回に分けて露光するようにしたため、ステージを高速移動させた場合でも、電子ビーム照射位置をステージ移動に追従させるための電子ビーム偏向量が許容範囲を超えてしまうことがなくなり、図形を高速かつ精度良く描画でき、描画スループットが向上する。
請求項（抜粋）：
被露光物を載置した試料ステージを連続的に移動させながら、該試料ステージの移動に追従して上記被露光物上の所定位置に所望の図形パターンを描画する電子線描画方法において、上記所望の図形パターンの描画のための所要露光時間を予め設定された最小露光時間と比較して、上記の所要露光時間が上記の最小露光時間よりも大きい場合には、上記の所要露光時間を上記の最小露光時間以下の複数の露光時間に分割して、この分割されたそれぞれの露光時間でもって、上記の被露光物上の所定位置に複数回の電子線照射を行なわせることを特徴とする電子線描画方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 1/08
, G03F 7/20 504
