オフセット印刷用ブランケット、オフセット印刷装置、オフセット印刷方法、並びにそれを用いた電子源及び画像形成装置の製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡辺敬介 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-033853
公開番号（公開出願番号）：特開2000-229398
出願日： 1999年02月12日
公開日（公表日）： 2000年08月22日
要約：

【要約】【課題】インキの受理と転移をほぼ完全に行なうことができ、版の形状を忠実に再現し得るオフセット印刷用ブランケットを提供する。【解決手段】支持体層の表面に積層された表面印刷層を、インキの転移時には、インキの溶剤の浸透によってインキの受理時よりも表面エネルギーが低い状態になるようにしたオフセット印刷用ブランケット。

請求項（抜粋）：

支持体層の表面に積層された表面印刷層を有するオフセット印刷用ブランケットであって、インキの受理時と転移時とで表面印刷層の極性が変化することを特徴とするオフセット印刷用ブランケット。

IPC (3件)：

B41F 3/46 , B41F 17/14 , B41M 1/34

FI (3件)：

B41F 3/46 , B41F 17/14 E , B41M 1/34

Fターム (8件)：

2H113AA05 , 2H113AA06 , 2H113BA05 , 2H113BB09 , 2H113BB22 , 2H113BC02 , 2H113CA17 , 2H113DA64

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