特許

J-GLOBAL ID：200903039838754995

磁気光学薄膜

発明者： 横山 侑子 ,  大澤 善美
出願人/特許権者： 工業技術院長 ,  日本碍子株式会社
代理人 (2件)： 渡邉 一平 (外1名) ,  渡邉 一平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-138561
公開番号（公開出願番号）：特開平6-347738
出願日： 1993年06月10日
公開日（公表日）： 1994年12月22日
要約：

【要約】【構成】 組成式(RE1-aBia)3(FexGayAlz)5O12及び不可避不純物からなる組成を有し、REは、Y、Tm、Yb及びLuからなる群より選ばれた少なくとも一元素であり、xは、0.50以上、0.75以下の範囲であり、x+y+z=1である磁気光学薄膜。【効果】 鉄を置換するガリウム及びアルミニウムの割合を制御することで、磁区の磁化方向が反転する飽和磁場が80Kで100Oe以下の磁気光学薄膜が得られた。

請求項（抜粋）：

組成式(RE1-aBia)3(FexGayAlz)5O12及び不可避不純物からなる組成を有し、REは、Y、Tm、Yb及びLuからなる群より選ばれた少なくとも一元素であり、xは、0.50以上、0.75以下の範囲であり、x+y+z=1であることを特徴とする磁気光学薄膜。

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭57-205398
  
• 特開昭57-200295