特許
J-GLOBAL ID:200903039842433850
乾式フラックス処理方法及び装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
八木田 茂 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-266178
公開番号(公開出願番号):特開平6-210445
出願日: 1993年10月25日
公開日(公表日): 1994年08月02日
要約:
【要約】【目的】 電子部品のような金属製品の少なくとも一表面を乾式フラックス処理する際に、フラックス残渣の除去にCFCを用いないようにする改良。【構成】 本発明は、フラックス処理する金属製品の一表面が、水素と、必要に応じて少なくとも1種類の不活性ガスを含むガス状混合物の、大気圧でのプラズマで処理する、前記の乾式フラックス処理方法に関する。本発明はまた、特に前記方法を実施する装置、並びにろう付又は金属被覆方法にも関する。
請求項(抜粋):
フラックス処理すべき表面が、水素と、必要に応じて少なくとも1種類の不活性ガスからなるガス状混合物から生ずる、大気圧でのプラズマによって処理されることを特徴とする、金属製品の少なくとも一表面を乾式フラックス処理する方法。
IPC (4件):
B23K 3/00
, B23K 1/20
, C21D 1/38
, H05H 1/46
引用特許:
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