特許
J-GLOBAL ID：200903039853460248
感光性組成物およびネガ型パターンの形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-149724
公開番号（公開出願番号）：特開平7-301912
出願日： 1994年06月30日
公開日（公表日）： 1995年11月14日
要約：
【要約】【目的】 短波長光、特にKrFエキシマレーザのような250nm付近の光に対して高感度でかつ高解像性を有するネガ型パターンの形成方法を提供するものである。【構成】 フェノール骨格を有するポリマ、β-ケトカルボン酸エステル基をもつ化合物および光により酸を生成する化合物を含む感光性組成物を基板上に塗布して感光性組成物膜を形成する工程と、前記感光性組成物膜をパターン露光した後、加熱処理する工程と、前記加熱処理された感光性組成物膜に塩基性化合物水溶液を接触させる工程と、前記感光性組成物膜を再度、加熱処理した後、全面に光照射し、再度加熱処理する工程と、前記感光性組成物膜をアルカリ現像する工程とを具備したことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
フェノール骨格を有するポリマ、β-ケトカルボン酸エステル基をもつ化合物および光により酸を生成する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/004 503
, G03F 7/038 505
, H01L 21/027
