特許
J-GLOBAL ID：200903039863387581
投影露光装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-156231
公開番号（公開出願番号）：特開平9-320951
出願日： 1996年05月28日
公開日（公表日）： 1997年12月12日
要約：
【要約】【課題】 露光光として波長200nm以下の光を用いても高精度な重ね合わせを実現する。【解決手段】 装置の大型化防止のため反射屈折光学系PLが採用され、この反射屈折光学系を構成する反射鏡M3の後方側からアライメント光を反射屈折光学系PLの途中に入射させ、感光基板W上のアライメントマークを照射し、その反射光を受光してアライメントマークを検出するマーク検出手段30が設けられている。このため、波長200nm以下のArFエキシマレーザ光を露光光ELとして用い、波長633nmのヘリウムネオンレーザ光をアライメント光として用いる場合であっても、アライメント光が感光基板Wに到達し、アライメントマークを検出することが可能となり、結果的に高精度な重ね合わせを実現することが可能となる。
請求項（抜粋）：
マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して感光基板上に投影する投影露光装置であって、前記投影光学系が露光光を前記感光基板に向けて反射する1または2以上の反射鏡を含む反射屈折光学系から構成され、前記いずれかの反射鏡の後方側から前記露光光と異なる波長のアライメント光を前記反射屈折光学系の途中に入射させ、前記感光基板上のアライメントマークに照射し、その反射光を受光して前記アライメントマークを検出するマーク検出手段を有する投影露光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 525 R
, G03F 9/00 H
