特許
J-GLOBAL ID：200903039864462196
永久磁石配列装置とその方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
真田 雄造 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-505986
公開番号（公開出願番号）：特表平11-509273
出願日： 1996年07月10日
公開日（公表日）： 1999年08月17日
要約：
【要約】軸14のまわりに回転するように組み付けられている高磁束マグネトロンアセンブリー12を有するマグネトロンスパッタリングシステム10が開示されている。このアセンブリーは永久磁石アセンブリー12の配列を持っている。各永久磁石アセンブリー12はターゲット16に事実上垂直に磁化されている第一の部分と、ターゲット16に事実上垂直で第一の部分と反対に磁化されている第二の部分と、第一と第二の部分の間に挿入されていて、ターゲット16に事実上平行に磁化されている第三の部分とを持っている。
請求項（抜粋）：
ターゲットから物質をスパッタするのにマグネトロンスパッタリングシステムに使うための高磁束で回転することのできる永久磁石配列において、この永久磁石配列は、複数の磁石アセンブリーを有し、 各磁石アセンブリーは、前記ターゲットに事実上垂直な磁化を持った第一の磁化された部分と、前記ターゲットに事実上垂直であり、前記第一の部分と反対方向の磁化を持った第二の磁化された部分と、前記第一の部分と前記第二の部分との間に位置していて、前記ターゲットに事実上平行な磁化を持った第三の磁化された部分とを有する永久磁石配列。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/35 Z
, H01F 7/02 T
