特許

J-GLOBAL ID：200903039873154747

電子ビーム形像システム

発明者： タイ-ホン・フィリップ・チャン ,  ハリー・ジョナサン・マミン ,  ダニエル・ラガー
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 頓宮 孝一 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-154612
公開番号（公開出願番号）：特開平5-174771
出願日： 1992年06月15日
公開日（公表日）： 1993年07月13日
要約：

【要約】【目的】 良好な形像を得るための一体型の二次電子検出器を用いる電子ビーム形像システムを提供する。【構成】 シャープなチップ18付きの電子源10が電子の流れを発生するようにバイアスされ、電子の流れの経路に導電性ターゲットが配置されている。平坦な静電集束レンズ12が電子の流れの経路において、電子源とターゲットとの間に配置されている。レンズは、アパーチャ25と、電子源より正にバイアスされる、第1の導電性シート20と、誘電性層22によつて分離されている1つ以上の導電体の環状リング24とを含む。二次電子検出器28が、導電性ターゲットに最も近い静電集束レンズの面に形成されることにより、レンズをターゲットに近くに配置しうるが、それから放出される二次電子が二次電子検出器に衝突するのを阻止しないようにしうる。

請求項（抜粋）：

電子の流れを発生するようにバイアスされたシャープなチップ付き電子源と、前記電子の流れの経路に配置した導電性ターゲットと、前記電子の流れの中でかつ前記電子源と前記導電性ターゲットとの間に配置された平坦な静電集束レンズ手段であって、電子が貫流しうるアパーチャと、バイアスされた少なくとも第1の導電性平面と、前記第1の導電性平面を支持する誘電性平面とを含むレンズ手段と、二次電子検出器とを備え、該二次電子検出器が前記導電性ターゲットに最も近く配設された前記静電集束レンズ手段の面に形成されることによって、前記静電集束レンズ手段が、前記ターゲットに近接して位置決めされうるが、前記二次電子検出器に二次電子が前記二次電子検出器に衝突するのを阻止しないようにしうることを特徴とする電子ビーム形像システム。

IPC (2件)：

H01J 37/28 ,  H01J 37/244