特許
J-GLOBAL ID：200903039873559585
抵抗器およびその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-236886
公開番号（公開出願番号）：特開平8-102403
出願日： 1994年09月30日
公開日（公表日）： 1996年04月16日
要約：
【要約】【目的】 レーザートリミング等を行わずとも、目的とする抵抗値の抵抗器を安価に提供することを目的とする。【構成】 基板1の上に第1の電極3cと第2の電極3dを形成し、第1の電極3cと第2の電極3dの間に抵抗体2を形成した後、抵抗体2の抵抗値が目的とする抵抗値になる位置に第3の電極としてのアジャスト電極4を形成する。
請求項（抜粋）：
基板上に設けた第1の電極と第2の電極と第3の電極と、この第1の電極と第2の電極と第3の電極に接続される抵抗体と、前記抵抗体を覆う保護層からなり、前記抵抗体の一端部は第1の電極の上に、他端部は第2の電極の上でかつ第3の電極としてのアジャスト電極の下に形成され、第1の電極と第2の電極の間隔よりも第1の電極と第3の電極の間隔が短くなるように構成した抵抗器。
IPC (3件)：
H01C 7/00
, H01C 1/14
, H01C 17/22
