特許
J-GLOBAL ID：200903039889345500
結像特性の測定方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-183797
公開番号（公開出願番号）：特開平6-026833
出願日： 1992年07月10日
公開日（公表日）： 1994年02月04日
要約：
【要約】【目的】 照明条件や投影条件の差異による焦点深度や解像力等の結像特性の変化を定量的に求める。【構成】 解像限界に近い線幅のパターンを、フォーカス状態を少しずつ変えながら投影露光し、形成されたレジスト像のトップ幅Tとボトム幅Bの比T/Bを各フォーカス位置毎に求め、そのデータをグラフ化する。
請求項（抜粋）：
所定の線幅を有するパターンが形成された原版を照明系からの照明光で照射することにより、前記パターンの像を投影光学系を介して感光基板上のレジスト層に転写した後、該転写されたパターンの像の寸法を計測することによって、前記転写時の結像特性を測定する方法において、前記感光基板上のレジスト層として前記照明光に対する吸収が比較的多いものを、ほぼ一定の厚みで形成する工程と;前記パターンの像を前記感光基板上の異なる位置ごとにフォーカス状態を変化させて転写する工程と;該転写された感光基板の現像により出現する前記パターンのレジスト像の表面部の線幅Tと底部の線幅Bとを計測する工程と;前記フォーカス状態の変化に対応させて、前記2つの線幅T、Bの比を算出する工程とを含み;該算出された比の特性変化に基づいて、照明条件、もしくは投影条件の変更に伴う結像特性の変化を測定することを特徴とする結像特性の測定方法。
IPC (4件)：
G01B 11/24
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
, H01L 21/66
