特許

J-GLOBAL ID：200903039891322886

分光学的断面画像測定装置

発明者： 佐藤 学 ,  丹野 直弘
出願人/特許権者： 科学技術振興事業団
代理人 (1件)： 清水 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-084639
公開番号（公開出願番号）：特開2001-272335
出願日： 2000年03月24日
公開日（公表日）： 2001年10月05日
要約：

【要約】【課題】 断層構造情報とその画像でのスペクトル情報を得ることができ、精確で信頼性の高い分光学的断面画像測定装置を提供する。【解決手段】 分光学的断面画像測定装置において、広帯域波長光源1と、照射光学系(2,3,4)と、空間遅延型フィゾー干渉計(5,6,7,8,9,10,11,13,14)と、マルチチャンネル分光器12と、画像データ処理用コンピュータ15とを備え、前記空間遅延型フィゾー干渉計(5,6,7,8,9,10,11,13,14)からの断層画像を測定するとともに、前記マルチチャンネル分光器12からの散乱光の波長スペクトルも同時に測定する。

請求項（抜粋）：

(a)広帯域波長光源と、(b)照射光学系と、(c)空間遅延型フィゾー干渉計と、(d)高速分光器と、(e)画像データ処理用コンピュータとを備え、(f)前記空間遅延型フィゾー干渉計からの断層画像を測定するとともに、前記高速分光器からの散乱光の波長スペクトルも同時に測定することを特徴とする分光学的断面画像測定装置。

IPC (6件)：

G01N 21/17 630 ,  G01N 21/17 625 ,  A61B 10/00 ,  G01B 9/02 ,  G01B 11/24 ,  G01N 21/01

FI (7件)：

G01N 21/17 630 ,  G01N 21/17 625 ,  A61B 10/00 E ,  G01B 9/02 ,  G01N 21/01 D ,  G01B 11/24 D ,  G01B 11/24 A

Fターム (49件)：

2F064AA09 ,  2F064CC04 ,  2F064EE05 ,  2F064FF00 ,  2F064GG00 ,  2F064GG02 ,  2F064GG22 ,  2F064GG49 ,  2F064GG51 ,  2F064GG57 ,  2F064GG70 ,  2F064HH08 ,  2F064JJ05 ,  2F065AA54 ,  2F065BB02 ,  2F065DD03 ,  2F065FF42 ,  2F065FF46 ,  2F065FF51 ,  2F065GG01 ,  2F065GG12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL02 ,  2F065LL42 ,  2F065LL46 ,  2F065LL57 ,  2F065LL67 ,  2F065MM26 ,  2F065NN08 ,  2F065QQ21 ,  2F065QQ28 ,  2F065QQ32 ,  2G059AA05 ,  2G059BB12 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059EE12 ,  2G059FF01 ,  2G059GG01 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ14 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ22 ,  2G059JJ30 ,  2G059KK03 ,  2G059KK04 ,  2G059MM20

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特許第6359692号
  
• 光学測定装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-073918   出願人：興和株式会社
• 微小変位測定装置とその方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-216342   出願人：エヌオーケー株式会社
• 微小変位計測装置とその方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-191056   出願人：エヌオーケー株式会社