特許

J-GLOBAL ID：200903039893577660

光伝送システム中のひずみ測定用アイマスク

発明者： オスリバン・モーリス・ステファン ,  フイ・ロングキング ,  ゾウ・ジンギュ
出願人/特許権者： ノーザン・テレコム・リミテッド
代理人 (1件)： 泉 和人
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-541299
公開番号（公開出願番号）：特表平11-510901
出願日： 1996年12月18日
公開日（公表日）： 1999年09月21日
要約：

【要約】光送信システムの性能評価分析を開示する。基準アイマスクは送信機用および基準光送信リンク用に形成される。現用パスの送信品質は、基準アイマスクを、ひずみ測定装置によって測定ポイントで再生された電気信号のアイダイアグラム上に当てはめることによって決定される。測定ポイントは、光送信リンクと送信損失を測定するために、受信機光接続面に置くことができ、または、測定ポイントは、送信機の性能を測定するために、送信機の光接続面に置くことができる。光パスは、光増幅器と、分散補償モジュールと、能動および受動コンポーネントとを含んでもよい。

請求項（抜粋）：

光送信システム中でひずみを測定する方法において: 送信機から前記送信機の下流方向に形成された測定ポイントに出力光信号を送信し; 前記測定ポイントに接続されたひずみ測定装置で、前記出力光信号が劣化し変形された入力光信号を受信し; 前記入力光信号を電気信号に変換し、前記電気信号からクロック信号を再生し; 前記電気信号の連続する2つのシンボル間の間隔(T)と比較して比較的大きいサンプリング間隔(Ts)を選択し; 前記の再生されたクロックを用いて、前記サンプリング間隔(Ts)の間、前記電気信号を繰り返し処理することによって、アイダイアグラムを形成し; 前記アイダイアグラム上でひずみパラメータを測定することを特徴とするひずみ測定方法。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭49-113508
  
• 特開昭55-127751
  
• 特開昭57-006383