特許

J-GLOBAL ID：200903039894589964

光学パタ-ン設計方法、光学パタ-ン製造方法、液晶表示装置、ショットブラスト装置及び砥粒選別装置

発明者： 西尾 千香良 ,  西山 秀作 ,  高崎 育史
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 岡本 啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-374092
公開番号（公開出願番号）：特開2000-193827
出願日： 1998年12月28日
公開日（公表日）： 2000年07月14日
要約：

【要約】【課題】 主として光源からの光を所定の強度で所定の方向に導く導光体の光学パターン設計方法、光学パターンを有する液晶表示装置、光学パターンの製造方法、ショットブラスト装置及び砥粒選別装置を提供する。【解決手段】 反射パターンを形成するグラデーション面と出射面へ到達する光強度を計算するための評価面とを夫々分割し、グラデーション面の分割された小エリアに対して光の入射/反射角度から種々の機能フィルムを透過した光が前記評価面の各エリアに角度何度でどの程度の強度で到達するかの関係をエリア毎に光学シミュレーションにより、評価面-グラデーション面の関連性をデータベース化し、光学シミュレーション後、評価面上で輝度の低いエリアの或る視野角の光強度を補正するとき、再度計算することなく短時間で、前記データベースからグラデーション面側の位置と光線角度を特定し、パターン設計する。

請求項（抜粋）：

導光体形状モデルから光学シミュレーションにより補正前輝度分布を計算し、前記補正前輝度分布を平均化する輝度補正値を計算して、前記輝度補正値に従つて導光体に形成する光学パターンの寸法及び散乱度を決定することを特徴とする光学パターン設計方法。

IPC (3件)：

G02B 6/00 331 ,  G02B 5/02 ,  G02F 1/1335 530

FI (3件)：

G02B 6/00 331 ,  G02B 5/02 B ,  G02F 1/1335 530

Fターム (11件)：

2H038AA55 ,  2H038BA06 ,  2H042BA03 ,  2H042BA15 ,  2H042BA20 ,  2H091FA23Z ,  2H091FA41Z ,  2H091FC06 ,  2H091FC12 ,  2H091FC25 ,  2H091LA30