特許
J-GLOBAL ID:200903039912105589

EXAFS測定装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 横川 邦明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-290510
公開番号(公開出願番号):特開平8-128971
出願日: 1994年10月31日
公開日(公表日): 1996年05月21日
要約:
【要約】【目的】 構造が簡単で製造コストが非常に低いEXAFS測定装置を提供する。【構成】 X線を発生するX線源2と、X線源2から放射されたX線を分光する分光結晶3と、分光されたX線を検出するI0 検出器5,I検出器7及び試料6を備えた検出器ユニット20と、分光結晶3及び検出器ユニット20の回転角度を測角するゴニオメータ15とを有するEXAFS測定装置である。ゴニオメータ15は、分光結晶3をθ回転させると共に検出器ユニット20をその分光結晶3の結晶軸ωを中心として2倍の速度で2θ回転させる、いわゆるθ-2θ系のゴニオメータによって構成される。そして分光結晶3は、パイロリテックグラファイトのようなモザイク角度幅が広い結晶であって、その厚さが1mm程度の薄い厚さの結晶によって形成される。
請求項(抜粋):
X線を発生するX線源と、X線源から放射されたX線を分光する分光結晶と、分光されたX線を検出するX線検出器及び試料を備えた検出器ユニットと、分光結晶及び検出器ユニットの回転角度を測角するゴニオメータとを有しており、上記ゴニオメータは、分光結晶をθ回転させると共に検出器ユニットをその分光結晶を中心として2倍の速度で2θ回転させ、上記分光結晶は、モザイク角度幅が広く且つ厚さの薄い結晶によって形成されることを特徴とするEXAFS測定装置。

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