特許
J-GLOBAL ID:200903039913529110
透明導電性積層フィルムおよびその製造方法
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
牧村 浩次
, 高畑 ちより
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-050402
公開番号(公開出願番号):特開2009-245935
出願日: 2009年03月04日
公開日(公表日): 2009年10月22日
要約:
【課題】優れた光学特性を有し、かつ変形に耐性のある透明導電層を有し、使用時に変形が生じるタッチパネル、電子ペーパー等に好適な、視認性、導電性に優れた低コストの透明導電性積層フィルムを提供する。【解決手段】透明導電性積層フィルムの製造方法は、JIS B0601-1994に規定の算術平均粗さRa、最大高さRyおよび十点平均粗さRzが、それぞれ、0.1≦Ra≦0.2μm、0.5≦Ry≦2.5μmおよび0.2≦Rz≦2.0μmを満たす保護層を、ノルボルネン系樹脂フィルム上に形成する工程(A)、およびポリエチレンジオキシチオフェンを含有する導電性塗料を、該保護層上に塗工し、放射線を照射して透明導電層を形成する工程(C)を含むことを特徴とする。【選択図】なし
請求項(抜粋):
JIS B0601-1994に規定の算術平均粗さRa、最大高さRyおよび十点平均粗さRzが、それぞれ、0.1≦Ra≦0.2μm、0.5≦Ry≦2.5μmおよび0.2≦Rz≦2.0μmを満たす保護層を、ノルボルネン系樹脂フィルム上に形成する工程(A)、およびポリエチレンジオキシチオフェンを含有する導電性塗料を、該保護層上に塗工し、硬化させて透明導電層を形成する工程(C)を含むことを特徴とする、透明導電性積層フィルムの製造方法。
IPC (6件):
H01B 13/00
, B32B 27/00
, B32B 3/26
, H01B 5/14
, G02B 1/10
, G06F 3/041
FI (6件):
H01B13/00 503B
, B32B27/00 A
, B32B3/26 Z
, H01B5/14 A
, G02B1/10 Z
, G06F3/041 330A
Fターム (41件):
2K009AA15
, 2K009BB11
, 2K009CC21
, 2K009CC24
, 2K009DD02
, 2K009EE03
, 4F100AH04C
, 4F100AK02B
, 4F100AK04C
, 4F100AK12C
, 4F100AK25A
, 4F100AK25C
, 4F100AK26C
, 4F100AT00A
, 4F100BA03
, 4F100BA07
, 4F100BA10B
, 4F100BA10C
, 4F100CA18C
, 4F100CC00C
, 4F100DD07A
, 4F100DD07C
, 4F100GB90
, 4F100JB14A
, 4F100JG01C
, 4F100JG04C
, 4F100JL04
, 4F100JN01A
, 4F100JN01B
, 4F100JN01C
, 4F100YY00A
, 4F100YY00C
, 5B087AA02
, 5B087CC14
, 5G307FA02
, 5G307FB03
, 5G307FC02
, 5G307FC09
, 5G323BA05
, 5G323BB01
, 5G323BC03
引用特許:
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