特許
J-GLOBAL ID：200903039914217546
自己強化窒化ケイ素焼結体及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-048099
公開番号（公開出願番号）：特開平8-245265
出願日： 1995年03月08日
公開日（公表日）： 1996年09月24日
要約：
【要約】【構成】金属Siなどのウイスカ生成材を含む粉末の成形体を、1気圧より低圧の窒素雰囲気中で窒化反応焼結する工程を含む製造工程で焼結する自己強化窒化ケイ素焼結体及びその製造方法。【効果】窒化ケイ素セラミックスの焼結中に反応により生成したウイスカで自己強化するため、均一分散,安価かつ安全に強度と破壊靭性を同時に向上させたウイスカ分散強化セラミックスを作製できる。
請求項（抜粋）：
結晶サイズが40μm以下の窒化ケイ素95〜70体積%を骨格として、Si3N4,SiC,Si2N2Oのうち少なくとも1種の線径0.1 から5μm,アスペクト比5から100のウイスカを5から30体積%含有する組成であり、前記ウイスカは全く配向性を持たずに均一に分布していることを特徴とする自己強化窒化ケイ素焼結体。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C04B 35/58 102 M
, C04B 35/80 M
