特許
J-GLOBAL ID：200903039918476384
基材又は基板表面の汚染防止方法と装置
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
吉嶺 桂 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-222775
公開番号（公開出願番号）：特開平7-057981
出願日： 1993年08月17日
公開日（公表日）： 1995年03月03日
要約：
【要約】【目的】 微粒子及び炭化水素を効果的に除去し、基材又は基板表面の汚染を防止する方法を提供する。【構成】 基材又は基板表面の汚染を防止する方法において、基材又は基板と接触する少なくとも炭化水素を含む気体2を、除塵手段6と光触媒4上への光照射5による炭化水素の分解手段とにより浄化し、前記気体中の微粒子濃度をクラス10以下、非メタン炭化水素濃度を0.2ppm 以下となした後8、前記気体を基材又は基板表面9に暴露することとしたものである。
請求項（抜粋）：
基材又は基板表面の汚染を防止する方法において、基材又は基板と接触する少なくとも炭化水素を含む気体を、除塵手段と光触媒上への光照射による炭化水素の分解手段とにより浄化し、前記気体中の微粒子濃度をクラス10以下、非メタン炭化水素濃度を0.2ppm 以下となした後、前記気体を基材又は基板表面に暴露することを特徴とする基材又は基板表面の汚染防止方法。
IPC (2件)：
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