特許

J-GLOBAL ID：200903039919588909

基板処理装置

発明者： 村岡 祐介
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 大坪 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-252031
公開番号（公開出願番号）：特開2000-068355
出願日： 1998年08月21日
公開日（公表日）： 2000年03月03日
要約：

【要約】【課題】 占有面積を小型化でき、また、基板搬送部のメンテナンスを容易に実行することが可能な基板処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】 基板処理装置は、インデクサ部2と、基板Wを純水を含む処理液中に浸漬することにより処理する3個の浸漬型処理部3と、各浸漬型処理部3において処理された基板Wを乾燥処理する基板乾燥部4と、基板搬送部5とを備える。3個の浸漬型処理部3と基板乾燥部4とは、基板処理装置の中央部に配置された基板搬送部5の周囲に方形を形成するように配置されている。また、3個の浸漬型処理部3と基板乾燥部4との間には、浸漬型処理部3または基板乾燥部4を互いに離隔させて配置することにより、基板搬送部5のメンテナンススペース6が形成されている。

請求項（抜粋）：

複数枚の基板を一括して処理する複数の基板処理部と、前記複数の基板処理部の中央部に配置され、複数枚の基板を保持することにより、これらの基板を前記各基板処理部に一括して搬送する基板搬送部とを備えた基板処理装置であって、前記基板処理部は、前記基板搬送部の周囲に方形を形成するように配置されており、かつ、前記複数の基板処理部の間の少なくとも一ヶ所に、前記各基板処理部を互いに離隔させて配置することにより、前記基板搬送部のメンテナンススペースを形成したことを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  B65G 49/07

FI (2件)：

H01L 21/68 A ,  B65G 49/07 C

Fターム (12件)：

5F031AA02 ,  5F031AA10 ,  5F031BB01 ,  5F031CC12 ,  5F031CC13 ,  5F031CC32 ,  5F031CC43 ,  5F031EE01 ,  5F031EE03 ,  5F031EE04 ,  5F031KK02 ,  5F031LL07