特許

J-GLOBAL ID：200903039920659879

高感度で高レジスト厚さのi線ホトレジスト用スルホニルオキシム類

発明者： 朝倉 敏景 ,  ハルトムート ブライアー ,  クリストフ デ レオ
出願人/特許権者： チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド
代理人 (1件)： 津国 肇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-231201
公開番号（公開出願番号）：特開2000-066385
出願日： 1999年08月18日
公開日（公表日）： 2000年03月03日
要約：

【要約】【課題】 優れたレジスト断面を有し、厚いレジスト層でも優れた感度を維持するホトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 (a)酸の作用によって架橋させることができる少なくとも1種の化合物および/または(b)酸の作用の下でその可溶性を変化させる少なくとも1種の化合物、ならびに(c)光開始剤としての、240〜390nmの波長の光に露光すると酸を生成させ、i線(365nm)で10未満のモル吸光係数εを有する少なくとも1種の化合物を含むことを特徴とする、光によって活性化することができる組成物;ならびに該組成物を含み、340〜390nmの範囲の放射線に感受性である、化学的に増幅されたホトレジスト。

請求項（抜粋）：

(a)酸の作用によって架橋させることができる少なくとも1種の化合物および/または(b)酸の作用の下でその可溶性を変化させる少なくとも1種の化合物、ならびに(c)光開始剤としての、240〜390nmの波長の光に露光すると酸を生成させ、i線(365nm)で10未満のモル吸光係数εを有する少なくとも1種の化合物を含むことを特徴とする、光によって活性化することができる組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R