特許
J-GLOBAL ID：200903039930591911
レーザープラズマX線源
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-068437
公開番号（公開出願番号）：特開平6-281799
出願日： 1993年03月26日
公開日（公表日）： 1994年10月07日
要約：
【要約】【目的】 X線の発生位置を一定に保つ。【構成】 巻取り可能な帯状に形成された標的物質5にレーザー光6を照射して該標的物質をプラズマ化し、該プラズマからX線を発生させるレーザープラズマX線源において、標的物質5を該物質の巻取り方向A、Bと平行な方向および直交する方向Cにそれぞれ挟み込み、標的物質にレーザー光を照射する際に該レーザー光に対する前記標的物質の位置を一定にしておく保持手段2、3、4を設けた。
請求項（抜粋）：
巻取り可能な帯状に形成された標的物質にレーザー光を照射して該標的物質をプラズマ化し、該プラズマからX線を発生させるレーザープラズマX線源において、前記標的物質を該物質の巻取り方向と平行な方向および直交する方向にそれぞれ挟み込み、前記標的物質にレーザー光を照射する際に該レーザー光に対する前記標的物質の位置を一定にしておく保持手段を有することを特徴とするレーザープラズマX線源。
IPC (3件)：
G21K 5/08
, H05G 2/00
, H05H 1/24
