プラズマ処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-224953
公開番号（公開出願番号）：特開2002-038274
出願日： 2000年07月26日
公開日（公表日）： 2002年02月06日
要約：

【要約】【課題】プラズマの発光強度や波長帯域ごとの分布測定を可能としたプラズマ処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】本発明のプラズマ処理装置100は、プラズマ反応槽10と、プラズマ発光分布計測手段20と、プラズマ制御手段30と、ガス流量制御手段40とで構成されており、プラズマ反応槽10で発生させたプラズマ12は光学ガラス窓15を通して光学系部品21に入り特定波長のみが撮影装置22に取り込まれる。取り込まれた画像データはコントローラ23を経由して、表示装置24でプラズマ分布画像として表示され、記録装置25で画像データとして記録され、画像処理装置26で処理された計測データはプラズマ制御手段30及びガス流量制御手段40にフィードバックされて、プラズマの発光分布が制御される。

請求項（抜粋）：

少なくともプラズマ反応槽と、プラズマ発光分布計測手段と、プラズマ制御手段と、ガス流量制御手段とを備えていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

C23C 16/52 , H01L 21/3065 , H05H 1/00 , H05H 1/46

FI (4件)：

C23C 16/52 , H05H 1/00 A , H05H 1/46 A , H01L 21/302 E

Fターム (15件)：

4K030AA06 , 4K030AA09 , 4K030AA14 , 4K030AA17 , 4K030EA01 , 4K030FA01 , 4K030HA16 , 4K030KA30 , 4K030KA36 , 4K030KA39 , 4K030KA41 , 5F004AA01 , 5F004BA04 , 5F004BD04 , 5F004CB02

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