特許
J-GLOBAL ID：200903039967658234
ガス漏れ修繕工法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
北村 修一郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-173854
公開番号（公開出願番号）：特開2001-355786
出願日： 2000年06月09日
公開日（公表日）： 2001年12月26日
要約：
【要約】【課題】 ガス配管に形成されたガス漏れ通路からのガス漏れを、広い作業空間を必要とすることなく、高い信頼性で修繕できるようにする。【解決手段】 ガス配管に形成されたガス漏れ通路Cからのガス漏れを、そのガス配管内にガスが充満している活管状態で修繕するガス漏れ修繕工法であって、ガス漏れ通路の出口側を未硬化の液状シール材6を含浸している多孔層7で被覆し、その出口側を被覆している多孔層を外周側から冷却して、多孔層に含浸している気密層形成用の液状資材10を凍結させた気密層11を形成し、多孔層に含浸している未硬化の液状シール材を、気密層の内側でガス漏れ通路内に浸透させて硬化させる。
請求項（抜粋）：
ガス配管に形成されたガス漏れ通路からのガス漏れを、そのガス配管内にガスが充満している活管状態で修繕するガス漏れ修繕工法であって、前記ガス漏れ通路の出口側を未硬化の液状シール材を含浸している多孔層で被覆し、前記出口側を被覆している多孔層を外周側から冷却して、その多孔層に含浸している気密層形成用の液状資材を凍結させた気密層を形成し、前記多孔層に含浸している未硬化の液状シール材を、前記気密層の内側で前記ガス漏れ通路内に浸透させて硬化させるガス漏れ修繕工法。
Fターム (4件)：
3H025EA03
, 3H025EB13
, 3H025EC01
, 3H025ED01
