特許

J-GLOBAL ID：200903039975286320

位置計測方法及び位置計測装置、並びに露光方法及び露光装置

発明者： 中島 伸一
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-240609
公開番号（公開出願番号）：特開2001-066111
出願日： 1999年08月26日
公開日（公表日）： 2001年03月16日
要約：

【要約】【課題】 広い視野を確保しなければならない状況においても標本化による誤差を低減することにより、結果として位置計測誤差を低減することのできる位置計測方法及び位置計測装置を提供する。【解決手段】 物体上に形成されたマークの位置を計測する位置計測方法であって、照明された上記マークから発生した光を受光して、サンプリングの位相の異なる複数の信号を発生し、上記複数の信号に基づいて、上記マークの位置を決定する。位相の異なる複数の信号は、例えば、上記物体の受光面上における上記マークの像と相対的に所定量回転した関係にある二次元撮像装置の、非走査方向に分割された領域に対応した各画像信号を含む。

請求項（抜粋）：

物体上に形成されたマークの位置を計測する位置計測方法であって、照明された前記マークから発生した光を受光して、サンプリングの位相の異なる複数の信号を発生し、前記複数の信号に基づいて、前記マークの位置を決定することを特徴とする位置計測方法。

IPC (3件)：

G01B 11/00 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G01B 11/00 H ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 H

Fターム (42件)：

2F065AA03 ,  2F065AA07 ,  2F065BB27 ,  2F065CC20 ,  2F065DD00 ,  2F065DD03 ,  2F065DD04 ,  2F065FF04 ,  2F065FF51 ,  2F065GG03 ,  2F065GG04 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ19 ,  2F065JJ25 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL12 ,  2F065LL22 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  2F065PP23 ,  2F065QQ01 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ14 ,  2F065QQ42 ,  5F046BA03 ,  5F046EA03 ,  5F046EA09 ,  5F046EB01 ,  5F046EB02 ,  5F046EB03 ,  5F046ED02 ,  5F046ED03 ,  5F046FA02 ,  5F046FA04 ,  5F046FA10 ,  5F046FA16 ,  5F046FA17 ,  5F046FB09 ,  5F046FB19 ,  5F046FC04 ,  5F046FC06