特許
J-GLOBAL ID：200903040002427254
ケイ素系ハイブリッド材料の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤本 博光 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-243184
公開番号（公開出願番号）：特開平8-104710
出願日： 1994年10月06日
公開日（公表日）： 1996年04月23日
要約：
【要約】【目的】 末端にアルコキシシリル基を有したビニル重合体を合成し、これを加水分解、縮重合させることにより得られるケイ素系ハイブリッド材料及びその製造方法を提供することにある。【構成】 分子内にイソシアナート基を有するアルコキシシラン類とイソシアナート基と反応する官能基を有するアゾ系ラジカル開始剤とから、生成したアルコキシシリル基末端アゾラジカル開始剤を用いて、ビニル基含有単量体をラジカル重合させ、アルコキシシリル基末端ビニル重合体を得、それを加水分解、縮重合してケイ素系ハイブリッド材料を製造する。【効果】 シロキサン結合により三次元的に架橋したケイ素系ハイブリッド材料を低コスト、且つ簡便に得ることができる。
請求項（抜粋）：
ビニル基含有単量体を重合するにあたり、分子内に少なくとも一個のイソシアナート基を有するアルコキシシラン類とイソシアナート基に反応する官能基を有するアゾ系ラジカル開始剤との共存下、ビニル基含有単量体をラジカル重合させてアルコキシシリル基末端ビニル重合体を得、次いで該ビニル重合体をゾルゲル法による加水分解/縮重合を行うことを特徴とするケイ素系ハイブリッド材料の製造方法。
IPC (2件)：
C08F 8/42 MHU
, C08F 4/04 MEG
