特許
J-GLOBAL ID:200903040009738085
オルト置換アリールメタル化合物の製造および親電子試薬とのそれらの反応のための方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
葛和 清司 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-359070
公開番号(公開出願番号):特開2000-239282
出願日: 1999年12月17日
公開日(公表日): 2000年09月05日
要約:
【要約】【課題】 オルト置換アリールメタル化合物の製造方法および親電子試薬とのそれらの反応、特に、現在の方法の述べられた欠点をもたず、有利なコストで、工業的規模において行うことができる、オルトハロアリールメタル化合物の製造方法および親電子試薬とのそれらの反応を提供する。【解決手段】 少なくとも、1つのハロゲン原子、1つのトリフルオロメトキシ基、1つのジアルキルアミノ基、1つのニトリル基、1つのアルコキシ基又は1つのジアルキルアミド基に対するオルト位に水素原子を有する芳香族化合物の脱プロトン化によるオルト置換アリールメタル化合物の製造及び親電子試薬とのそれらの反応のための方法であって、芳香族化合物の脱プロトン化を、2級メタルアミドの触媒量の存在下に、アルキルメタル化合物又はアリールメタル化合物、又はメタルヒドリドを使用して行うことを特徴とする、前記方法。
請求項(抜粋):
少なくとも、1つのハロゲン原子、1つのトリフルオロメトキシ基、1つのジアルキルアミノ基、1つのニトリル基、1つのアルコキシ基又は1つのジアルキルアミド基に対するオルト位に水素原子を有する芳香族化合物の脱プロトン化によるオルト置換アリールメタル化合物の製造及び親電子試薬とのそれらの反応のための方法であって、芳香族化合物の脱プロトン化を、2級メタルアミドの触媒量の存在下に、アルキルメタル化合物又はアリールメタル化合物、又はメタルヒドリドを使用して行うことを特徴とする、前記方法。
IPC (6件):
C07F 1/02
, C07B 37/04
, C07C 35/50
, C07C 43/23
, C07F 5/04
, C07F 7/12
FI (6件):
C07F 1/02
, C07B 37/04 Z
, C07C 35/50
, C07C 43/23 E
, C07F 5/04 C
, C07F 7/12 D
引用特許:
前のページに戻る