特許
J-GLOBAL ID:200903040013248289

試料の処理システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大塚 康徳 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-316576
公開番号(公開出願番号):特開2000-150611
出願日: 1998年11月06日
公開日(公表日): 2000年05月30日
要約:
【要約】【課題】SOI基板の製造に好適な処理システムを提供する。【解決手段】この処理システム6000は、反転装置6130、芯出し装置6120、洗浄/乾燥装置6110、ローダ6070、第1アンローダ6080、第2アンローダ6090及び第3アンローダ6100、分離装置6020を有する。また、この処理システム6000は、ロボットハンド6152を水平面内で水平駆動軸6160に沿って直線的に移動させると共に回動軸6151を中心として回転させる他、該ロボットハンド6152を回動軸6151から遠ざけたり近づけたりすることにより、上記の複数の処理装置の間で貼り合わせ基板又は分離後の各基板を搬送する搬送機構を有する。上記の複数の処理装置は、搬送機構が貼り合わせ基板又は分離後の各基板を受け渡し可能な位置に配置されている。
請求項(抜粋):
試料を処理する処理システムであって、試料を取り扱い又は処理するための複数の処理装置と、試料を保持する保持部を有し、前記保持部を水平面内で直線的に移動させると共に回動軸を中心として回転させる他、前記保持部を前記回動軸から遠ざけたり近づけたりすることにより、前記複数の処理装置の間で試料を搬送する搬送機構と、を備え、前記複数の処理装置は、前記搬送機構が試料を受け渡し可能な位置に配置されていることを特徴とする処理システム。
IPC (3件):
H01L 21/68 ,  H01L 21/306 ,  H01L 27/12
FI (3件):
H01L 21/68 A ,  H01L 27/12 B ,  H01L 21/306 C
Fターム (16件):
5F031CA05 ,  5F031GA28 ,  5F031GA43 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031MA21 ,  5F031MA23 ,  5F043AA02 ,  5F043AA40 ,  5F043DD23 ,  5F043DD30 ,  5F043EE07 ,  5F043EE35 ,  5F043EE36 ,  5F043EE40 ,  5F043GG10

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