特許

J-GLOBAL ID：200903040019208335

水処理装置

発明者： 山本 一浩 ,  廣田 達哉 ,  稲本 吉宏 ,  岸 稔 ,  中西 稔 ,  川村 保
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (1件)： 芝野 正雅
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-205728
公開番号（公開出願番号）：特開2002-018442
出願日： 2000年07月06日
公開日（公表日）： 2002年01月22日
要約：

【要約】【課題】電解槽を用い、電気化学反応により滅菌をする水処理装置においては、電極板にスケール(主にカルシウム、マグネシウム、及びこれらの酸化物、水酸化物など)が付着する問題がある。【解決手段】電極洗浄手段により、電極板に付着したスケールの除去作用のある洗浄液を電解槽内に満たした状態で、所定時間その状態を維持して電極板の洗浄を行い、洗浄終了後に電極洗浄のために使用された洗浄液を排液する。

請求項（抜粋）：

被処理水を貯留する水槽に接続され、当該水槽から被処理水を導入して、途中に設けた電解槽内で、少なくとも2枚の電極板からなる電極組に通電することで、滅菌作用を有する滅菌液を製造し、製造した滅菌液を水槽に還流させる水処理経路と、電極板を通電制御しつつ水処理経路を作動させる制御手段とを備えた水処理装置において、前記制御手段は電極洗浄手段を有し、該電極洗浄手段は、電極板に付着したスケールの除去作用のある洗浄液を電解槽内に満たした状態で、所定時間その状態を維持して電極板の洗浄を行い、洗浄終了後に電極洗浄のために使用された洗浄液を排液することを特徴とする水処理装置。

IPC (3件)：

C02F 1/46 ,  C02F 5/00 610 ,  C02F 5/00 620

FI (3件)：

C02F 1/46 Z ,  C02F 5/00 610 H ,  C02F 5/00 620 B

Fターム (20件)：

4D061DA05 ,  4D061DA07 ,  4D061DB10 ,  4D061EA02 ,  4D061EB02 ,  4D061EB04 ,  4D061EB18 ,  4D061EB20 ,  4D061EB30 ,  4D061EB37 ,  4D061EB39 ,  4D061ED13 ,  4D061FA08 ,  4D061FA13 ,  4D061GA02 ,  4D061GA06 ,  4D061GA30 ,  4D061GC12 ,  4D061GC16 ,  4D061GC20

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 電解浄化温浴装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-075400   出願人：松下電器産業株式会社