プラズマ処理装置及びそのメンテナンス方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-293002
公開番号（公開出願番号）：特開2002-110638
出願日： 2000年09月26日
公開日（公表日）： 2002年04月12日
要約：

【要約】【課題】処理室内部の部品交換やメンテナンス作業が容易に行えるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。【解決手段】UHF帯アンテナ110からの電磁波放射によりプラズマを発生して試料を処理するプラズマ処理装置において,アンテナ電源系120からUHF帯アンテナ110に電力を供給する同軸管導入端子部分150について,カップリングユニットのクランプ締結と電磁波シールドにより同軸管アースシールドの接続と分離をおこない,さらにクランプ締結と連動したインターロック機構166によりアンテナ110への電力供給を可能とすることで,導入端子の接続・分離作業を容易にかつ再現性・信頼性よく行ってウエットクリーニングや部品交換などの,メンテナンス作業を効率よく行う。

請求項（抜粋）：

内部に処理室が形成された真空容器と,前記処理室内で処理される試料を保持する電極と,前記処理室内にプラズマを発生させるためのプラズマ発生装置と,前記プラズマ発生装置に電力を供給する電力供給部と,前記プラズマ発生装置と電力供給部のそれぞれの中心導体同士および外周導体同士を接続する接続部とを有するプラズマ処理装置において,前記接続部の外周導体の外側に,締結と分割が可能な複数個のユニットで構成されて該ユニット同士を相互に締結して前記のそれぞれの外周導体と接触することで該外周導体同士を接続するカップリングユニットを設置したことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/3065 , C23C 16/509 , C23F 4/00 , H01L 21/205 , H05H 1/46

FI (6件)：

C23C 16/509 , C23F 4/00 A , H01L 21/205 , H05H 1/46 L , H05H 1/46 C , H01L 21/302 N

Fターム (34件)：

4K030FA03 , 4K030JA16 , 4K030KA14 , 4K030KA32 , 4K030KA45 , 4K030KA49 , 4K057DA16 , 4K057DA19 , 4K057DB06 , 4K057DD01 , 4K057DM05 , 4K057DM18 , 4K057DM33 , 4K057DN01 , 5F004AA15 , 5F004AA16 , 5F004BA14 , 5F004BB07 , 5F004BB14 , 5F004BB18 , 5F004BC08 , 5F004DA00 , 5F004DA23 , 5F004DA26 , 5F004DB03 , 5F045BB08 , 5F045BB10 , 5F045DP03 , 5F045EB06 , 5F045EH02 , 5F045EH07 , 5F045EH17 , 5F045EH20 , 5F045EM04

引用特許：

審査官引用 (3件)

プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-328562 出願人：国際電気株式会社
特開昭59-033777
特開昭61-049985

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