特許
J-GLOBAL ID：200903040035248401
固体電解質イオン導体システムを使用する富化燃焼方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
倉内 基弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-085961
公開番号（公開出願番号）：特開2000-304206
出願日： 2000年03月27日
公開日（公表日）： 2000年11月02日
要約：
【要約】【課題】 解決しようとする課題は、セラミック膜モジュール内に近大気圧力下に空気が送給され、現用のプラクティスよりも要求電力量が実質的に少ない、酸素富化燃焼あるいは部分酸化プロセスを提供することである。【解決手段】 比較的高濃度の酸素を含む送給物流れ232が約500〜1000°Cの好適な温度に前加熱され、イオン導伝膜220の保持側220aに導入され、透過側220bを通過し、炉230に結合した透過物チャンバ238に入る。炉230内に発生する煙道ガスの多くの部分は再循環流れ246として透過物チャンバ238に再循環される。再循環流れ246は、イオン導伝膜220の透過側220b内の酸素濃度を低下せしめ、また、イオン導伝膜220を通る酸素流れを増大させる。
請求項（抜粋）：
窒素濃度の低い酸化体を使用する燃焼方法であって、(a)酸素を含有するガスを、第1の圧力下の保持側と、透過チャンバを形成する、第2の圧力下の透過側と、を有するイオン導伝膜を含むイオン導伝モジュール内に導入し、前記透過側において純粋酸素ガス流れを分離させるとともに前記保持側の酸素を前記分離相当量減損させ、かくして酸素減損されたガス流れを生成すること、(b)低濃度の窒素を含むパージガス流れを前記透過側に通し、約40%未満の酸素を含有する酸化体流れを形成すること、(c)該酸化体流れ及び燃料を燃焼チャンバに導入し、熱及び燃焼生成物を生成すること、を含む窒素濃度の低い酸化体を使用する燃焼方法。
IPC (4件)：
F23C 11/00 310
, F23C 11/00 ZAB
, F23C 11/00 320
, B01D 53/22
F23C 11/00 310
, F23C 11/00 ZAB
, F23C 11/00 320
, B01D 53/22
