特許
J-GLOBAL ID：200903040039028180
磁気記録媒体と薄膜の製造方法及び薄膜の製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
池内 寛幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-194005
公開番号（公開出願番号）：特開平8-063732
出願日： 1994年08月18日
公開日（公表日）： 1996年03月08日
要約：
【要約】【目的】磁気記録媒体などの薄膜形成において、反応ガスの導入を分割して差し向けたガス流の集合体として行うこと、及び励起したガス流を差し向けて反応に必要なガスを効率よく導入、反応することにより、蒸発原子の流れを乱すことが少なく、優れた特性の薄膜を形成する。【構成】 ガス導入ノズルの形状を2段構造とし第2段部分20で高周波コイル18により高周波電力を供給し、導入ガスの励起を行う。初段部分19のノズル先端の開口径を0.2mm、細分化したノズル部分の長さを30mmとして13.56MHzの高周波電力を供給した。反応ガスは導入管17から導入する。
請求項（抜粋）：
基板上に直接または下地層を介して薄膜磁性層が形成されてなる磁気記録媒体において、前記磁性層が少なくともCoとOを主成分として含み、かつ前記磁性層の表面側に、前記基板または前記下地層との界面近傍を除いた前記磁性層部分よりも酸素の多い領域を有し、かつ前記磁性層の表面から5nm以上の、前記基板または前記下地層との界面近傍を除いた前記磁性層部分では酸素量が実質的にほぼ一定であることを特徴とする磁気記録媒体。
IPC (3件)：
G11B 5/66
, C23C 14/08
, G11B 5/85
