特許
J-GLOBAL ID：200903040048539634
有機EL素子およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 弘男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-253766
公開番号（公開出願番号）：特開平11-097171
出願日： 1997年09月18日
公開日（公表日）： 1999年04月09日
要約：
【要約】【課題】 微細な間隔で分離された薄膜を基板上に形成したEL素子、及びその製造方法を提供する。【解決手段】 基板には、基板上に薄膜を形成した場合でも薄膜が接続されないで形成される所定の大きさの溝が形成してある。したがって、基板にかかる溝を任意に形成し、その上に薄膜を形成することにより、溝によって互いに分離された薄膜が容易かつ確実に形成できる。又溝は直線でなくともよいことから所望の形状に薄膜を分離できる。
請求項（抜粋）：
基板上に互いに分離された薄膜を形成してなる有機EL素子において、分離パターニングする前記薄膜を形成する基板上に、該基板上に生成した前記薄膜が該薄膜の形成工程によっては互いに分離された状態で形成される溝部を前記薄膜の境界部分に有し、前記溝部によって所定の形状に分離した前記薄膜が前記基板上に形成されていることを特徴とする有機EL素子。
IPC (3件)：
H05B 33/10
, H01L 21/3205
, H05B 33/02
H05B 33/10
, H05B 33/02
, H01L 21/88 B
