特許

J-GLOBAL ID：200903040070359828

処理装置及びアルミ系部材のコーティング方法

発明者： 小美野 光明 ,  北村 昌幸
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 金本 哲男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-085573
公開番号（公開出願番号）：特開平7-273053
出願日： 1994年03月31日
公開日（公表日）： 1995年10月20日
要約：

【要約】【目的】 半導体ウエハなどの被処理体を処理する処理装置において、ClF3、NF3などのハロゲン系のクリーニングガスに曝されても、その表面が腐食しないようにする。【構成】 ウエハWに対して所定の処理を施す様に構成された処理室2内の、載置台21、静電チャック27、加熱装置22の表面を、予めフッ素で置換したコーティング処理を施し、表面にAlF3を形成させておく。【効果】 AlF3は極めて安定した物性を有し、ClF3、NF3などハロゲン系ガスに対して不動態となる。その結果耐食性が向上し、腐食しない。

請求項（抜粋）：

排気手段によって排気可能な処理室を有し、前記処理室内に存する被処理体に対して所定の処理を施す如く構成された処理装置において、前記処理室内の雰囲気と接するアルミ系部材の表面が、予めフッ素で置換されてコーティングされていることを特徴とする、処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/22

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-263972
  
• 特開平4-263093
  
• 特開昭59-184527