特許
J-GLOBAL ID：200903040076134496
熱処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
渡邊 隆文
, 喜多 秀樹
, 坂本 寛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-224470
公開番号（公開出願番号）：特開2004-071596
出願日： 2002年08月01日
公開日（公表日）： 2004年03月04日
要約：
【課題】熱処理工程に要する時間の大幅短縮と、均一な熱処理とを可能にする熱処理装置を提供する。【解決手段】プロセスチューブ2を導電性の加熱筒5で取り囲み、その外側に誘導加熱コイル6を配置する。加熱筒5は誘導加熱によって一気に加熱され、熱線をプロセスチューブ2に放射する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
熱処理の被処理物を収容する石英製のプロセスチューブと、
前記プロセスチューブを取り囲む導電性の加熱筒と、
前記加熱筒の外側に配置された誘導加熱コイルと
を備えたことを特徴とする熱処理装置。
IPC (3件)：
H01L21/22
, H01L21/205
, H01L21/324
H01L21/22 501A
, H01L21/205
, H01L21/324 J
5F045BB08
, 5F045DP19
, 5F045EB02
, 5F045EB03
, 5F045EC05
, 5F045EK02
