特許
J-GLOBAL ID:200903040078234064
粒子線照射システム
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
作田 康夫
, 井上 学
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-331325
公開番号(公開出願番号):特開2006-145213
出願日: 2004年11月16日
公開日(公表日): 2006年06月08日
要約:
【課題】 ビーム出射停止信号が出力されてから、加速器からの荷電粒子ビームの出射が停止されるまでに時間を要する場合であっても、照射対象の線量分布をより均一化する。【解決手段】 シンクロトロン12と、走査電磁石5A,5Bを有し、シンクロトロン12から出射されたイオンビームを出力する照射装置15と、照射装置15からのイオンビームの出力をビーム出射停止信号に基づいて停止させ、イオンビームの出力を停止した状態で、走査電磁石5A,5Bを制御することによりイオンビームの照射位置を変更させ、この変更後に、照射装置15からのイオンビームの出力を開始させ、ビーム出射停止信号を起点とした積算照射量の増分が、予め記憶された設定照射量に達したことに基づいて次のビームの出射停止信号を出力する制御装置とを備える。【選択図】図1
請求項(抜粋):
荷電粒子ビームを出射する加速器と、
荷電粒子ビーム走査装置を有し、前記加速器から出射された荷電粒子ビームを照射対象の照射位置に照射する照射装置と、
前記照射位置への前記荷電粒子ビームの照射量を計測する照射量検出装置と、
前記照射量検出装置で計測された前記照射量を入力し、第2の前記照射位置の1つ前の第1の前記照射位置における、ビーム出射停止信号出力後の第1の前記照射量と、前記第2の照射位置への第2の前記照射量との積算量が設定照射量に達したとき、前記第2の照射位置に照射する前記荷電粒子ビームの出射を停止させるビーム出射停止信号を出力する制御装置とを備えたことを特徴とする粒子線照射システム。
IPC (3件):
G21K 5/04
, A61N 5/10
, H05H 13/04
FI (7件):
G21K5/04 C
, G21K5/04 A
, G21K5/04 D
, G21K5/04 S
, A61N5/10 H
, H05H13/04 M
, H05H13/04 N
Fターム (18件):
2G085AA13
, 2G085BA02
, 2G085BA11
, 2G085BA13
, 2G085CA02
, 2G085CA04
, 2G085CA22
, 2G085CA26
, 2G085EA07
, 4C082AA01
, 4C082AC05
, 4C082AE03
, 4C082AG02
, 4C082AG07
, 4C082AG09
, 4C082AG52
, 4C082AN05
, 4C082AP02
引用特許:
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