特許
J-GLOBAL ID:200903040082294071
平版印刷板製造用感放射線記録材料
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-323912
公開番号(公開出願番号):特開平9-160233
出願日: 1995年11月17日
公開日(公表日): 1997年06月20日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 耐現像性および耐化学薬品性に優れた感放射線記録材料の提供。【解決手段】 アルミニウム支持体、及びその上に塗布した感放射線層からなり、支持体が、粗面化され陽極酸化された後、親水化されたものであり、感放射線層が、下記a)〜f)を含んでなる平版印刷板製造用のポジ型感放射線記録材料。a)1,2-ナフトキノン-2-ジアジド-4-スルホン酸等と、フェノール性ヒドロキシル基を有する重縮合物との感放射線エステル、b)アルカリに可溶な樹脂として、ノボラック、又はポリフェノールとアルデヒドもしくはケトンとの反応により得られる重縮合物、c)ヒドロキシフェニル側基を有する単位を含んでなるビニル系ポリマー、d)包接化合物、e)酸性水素原子を含んでなる低分子量化合物、f)最大半径が15μmであるシリカゲル粒子。
請求項(抜粋):
アルミニウム支持体、及びその上に塗布した感放射線層からなり、アルミニウム支持体が、硝酸中で粗面化された後、硫酸中でスマット除去され、硫酸中で陽極酸化された後、ホスホン酸もしくはホスホネート基を有する単位を少なくとも1つ含んでなる化合物を用いて親水化されたものであり、感放射線層が、a)1,2-ナフトキノン-2-ジアジド-4-スルホン酸もしくは1,2-ナフトキノン-2-ジアジド-5-スルホン酸と、フェノール性化合物とアルデヒドもしくはケトンとの反応により得られるフェノール性ヒドロキシル基を有する重縮合物との感放射線エステル、b)アルカリに可溶な樹脂として、ノボラック、又はポリフェノールとアルデヒドもしくはケトンとの反応により得られる重縮合物、c)ヒドロキシフェニル側基を有する単位を少なくとも一つ含んでなるビニル系ポリマー、d)包接形成化合物、e)酸性水素原子を少なくとも一つ含んでなる低分子量化合物、及びf)最大半径が15μmであるシリカゲル粒子からなるものである、平版印刷板製造用のポジ型感放射線記録材料。
IPC (7件):
G03F 7/022
, B41N 1/14
, B41N 3/03
, G03F 7/00 503
, G03F 7/004 501
, G03F 7/023 501
, G03F 7/023 511
FI (7件):
G03F 7/022
, B41N 1/14
, B41N 3/03
, G03F 7/00 503
, G03F 7/004 501
, G03F 7/023 501
, G03F 7/023 511
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