特許
J-GLOBAL ID:200903040089447000
レーザダイオード固定方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
後藤 洋介 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-184409
公開番号(公開出願番号):特開2003-008127
出願日: 2001年06月19日
公開日(公表日): 2003年01月10日
要約:
【要約】【課題】 位置精度を高めることが容易で、簡単な構造で実施でき、しかも放熱性を阻害することのないレーザダイオード固定方法を提供すること。【解決手段】 光学ベース1にレーザダイオード2固定するにあたり、まず、光学ベースのレーザダイオード配置領域3の周囲にブロック4を固定する。次いで、高周波加熱装置のコイル7に通電してブロック及びレーザダイオードを発熱させる。こうして、ブロック及びレーザダイオードから発した熱によりレーザダイオードをブロックにはんだ6を用いてはんだ付け固定する。
請求項(抜粋):
光学ベースにレーザダイオードを固定するレーザダイオード固定方法において、前記光学ベースの前記レーザーダイオードを配置する領域の周囲にブロックを固定し、高周波加熱装置により前記ブロック及び前記レーザダイオードを発熱させ、前記ブロック及び前記レーザダイオードから発した熱により前記レーザダイオードを前記ブロックにはんだを用いてはんだ付け固定することを特徴とするレーザダイオード固定方法。
IPC (3件):
H01S 5/022
, G11B 7/08
, G11B 7/22
FI (3件):
H01S 5/022
, G11B 7/08 Z
, G11B 7/22
Fターム (14件):
5D117AA02
, 5D117CC07
, 5D117HH01
, 5D117KK23
, 5D119AA02
, 5D119AA36
, 5D119AA38
, 5D119BA01
, 5D119FA35
, 5D119NA04
, 5F073BA05
, 5F073FA22
, 5F073FA23
, 5F073FA30
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