特許
J-GLOBAL ID：200903040112920894

パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法

発明者：
高島 正伸

高島 正伸 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (3件)： 廣田 浩一 ,  流 良広 ,  松田 奈緒子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-184440
公開番号（公開出願番号）：特開2006-010796
出願日： 2004年06月23日
公開日（公表日）： 2006年01月12日
要約：
【課題】 感光層の感度低下を抑制でき、かつ、解像度に優れ高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 【解決手段】 支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を含み、かつ、該感光層を現像する場合において、第一の形態では現像後の現像液中に存在する粒状物の95%以上が、粒径0.01〜1.0μmの粒状物であり、第二の形態では該現像後の現像液の静的表面張力が、30〜45mN/mであり、第三の形態では該現像後の現像液の100秒後の動的表面張力が、40〜56mN/mであることを特徴とするパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置、及び該パターン形成材料を用いて露光するパターン形成方法である。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を含み、かつ、該感光層を現像する場合において、現像後の現像液中に存在する粒状物の95%以上が、粒径0.01〜1.0μmの粒状物であることを特徴とするパターン形成材料。
IPC (4件)：
G03F 7/26 ,  G03F 7/027 ,  G03F 7/32 ,  H05K 3/00
FI (4件)：
G03F7/26 501 ,  G03F7/027 511 ,  G03F7/32 ,  H05K3/00 F
Fターム (22件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025BC51 ,  2H025BC66 ,  2H025CA00 ,  2H025CB00 ,  2H025EA08 ,  2H025FA17 ,  2H096AA26 ,  2H096BA05 ,  2H096BA06 ,  2H096CA16 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096GA13 ,  2H096JA04 ,  2H096LA19
引用特許：
出願人引用 (4件)
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