特許
J-GLOBAL ID：200903040114702428
帯電式スペーサ粒子散布方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 晴敏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-245926
公開番号（公開出願番号）：特開平6-067184
出願日： 1992年08月20日
公開日（公表日）： 1994年03月11日
要約：
【要約】【目的】 表示素子等を構成するフラットパネルに用いられるスペーサ粒子の選択的散布を可能にする。【構成】 基板1の表面には所定のストライプパタンに従って予め電極2が設けられている。この電極2と基板1との間に所望の電位差を与え帯電領域を形成する。次に、イオン化したスペーサ粒子3を基板1上に散布し静電引力を利用して帯電領域即ち電極2のみにスペーサ粒子3を選択吸着する。この後、スペーサ粒子3を介して対向基板4を基板1に重ね合わせシール材5により互いに接着してフラットセルを構成する。
請求項（抜粋）：
所定のパタンに従って基板表面に帯電領域を形成する前工程と、イオン化したスペーサ粒子を該基板上に散布し静電引力を利用して前記帯電領域のみにスペーサ粒子を選択吸着させる本工程とを有する帯電式スペーサ粒子散布方法。
IPC (3件)：
G02F 1/1339 500
, G02F 1/13 101
, G02F 1/1333
